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上海团队突破存储器技术瓶颈 “超级开关”助力中国芯片自主可控

   日期:2026-07-06     作者:itcg    浏览:2419    我要评论    
导读:上海团队突破存储器技术瓶颈 “超级开关”助力中国芯片自主可控

在电子设备高度依赖存储技术的今天,人们每天通过手机拍摄数以千计的照片、观看海量视频、使用各类应用程序,却很少思考这些数据为何能在断电后依然完好保存。支撑这一切的,正是被称为电子设备“记忆中枢”的存储器。随着人工智能、大数据等领域的快速发展,数据量呈现爆炸式增长,传统存储技术已难以满足需求,三维存储器应运而生——这种技术通过垂直堆叠存储单元,在相同芯片面积下实现容量数十倍甚至上百倍的提升。

在三维存储器这座“数据高楼”中,开关材料扮演着至关重要的角色。它如同每个存储单元的“智能门卫”,既要防止电流在非目标单元间窜流(抑制漏电流),又要在读写数据时确保电流精准通过(提供驱动电流)。理想的开关材料需具备高开关比、快速响应、长寿命、低成本且与现有工艺兼容等特性。然而,全球半导体巨头如英特尔、三星等长期使用的阈值转变开关材料,仍存在性能瓶颈、成分复杂、稳定性不足等问题。

中国科学院上海微系统与信息技术研究所的科研团队,在宋志棠研究员的带领下,突破传统研究范式,从原子结构层面重新定义开关材料的设计逻辑。他们发现,非晶态材料中普遍存在的“缺陷导电细丝”理论存在局限性,转而聚焦于材料中特殊的非对称八面体结构单元,提出“非对称八面体基元开关理论”。基于这一理论,团队制定了四项筛选原则,能够从海量材料中快速定位具有潜力的基元组合。

通过将不同基元的优势进行“乐高式”整合,团队开发出一种新型开关材料。该材料在漏电流控制、驱动电流提供等关键指标上,首次超越英特尔当时量产产品的性能。这一突破直接推动了我国三维相变存储器芯片的产业化进程,为存储芯片自主可控提供了重要技术支撑。与此同时,团队还探索了另一条技术路径:通过计算阴/阳离子杂化率,研发出基于硫化锗(GeS)的开关材料。其工作原理依赖于“缺陷态电子激发和原子跳变”,在开关速度和稳定性方面表现优异,引发三星、海力士等国际企业的跟进研究。

在追求极致性能的过程中,团队将目光投向单一元素材料。他们发现,金属碲(Te)在常温下为固态,通电后可瞬间转变为液态,断电后迅速恢复固态。这种“晶态-液态”相变特性,使其成为天然的开关介质:固态时电阻高,电流难以通过;液态时电阻极低,电流畅通无阻。更关键的是,这一转变过程发生在纳秒级别,且可逆次数极高。通过设计限制型结构防止碲流失,团队进一步延长了材料寿命。相关成果发表于国际顶级期刊《科学》,并被评价为“开创性突破”。

科研成果的价值最终体现在产业化应用上。宋志棠团队从研究初期便构建了产学研协同创新体系,完成多项国家级科研项目,搭建了从基础研究到芯片验证的全链条平台。目前,团队已实现嵌入式相变存储器的量产,并正在推进更高密度三维相变存储器的商业化进程。当用户用手机流畅观看高清视频、通过人脸识别完成支付时,背后可能正有一颗源自中国科研团队的“超级开关”在默默工作。

 
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