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三星加速布局HBM4内存:平泽P4建新线,华城Fab17升级1c nm工艺

   日期:2026-02-06     作者:itcg    浏览:2081    我要评论    
导读:三星加速布局HBM4内存:平泽P4建新线,华城Fab17升级1c nm工艺

三星电子正加速布局下一代内存芯片生产,计划在平泽P4晶圆厂综合体新建一条1c纳米级DRAM生产线,专门用于生产HBM4内存所需的核心芯片。这条新生产线预计于明年第一季度正式投产,初期月产能将达到10万至12万片晶圆,占三星2026年DRAM总产能的近五分之一。

目前三星已具备每月约6.5万片1c纳米DRAM的产能,随着新生产线投产,HBM4相关芯片的产能占比将提升至整体DRAM产量的四分之一。在配套组件方面,平泽S5晶圆厂的4纳米生产线已全面投入运营,专门用于生产HBM4基础芯片,形成完整的供应链体系。

为满足消费电子市场对高性能内存的需求,三星同步推进现有产线升级计划。位于华城的Fab 17工厂将把现有DRAM生产线升级至1c纳米工艺,重点服务智能手机、智能家电等领域的通用型内存需求。这项改造工程将与新建生产线形成协同效应,进一步巩固三星在先进内存市场的技术优势。

 
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