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Intel自称3nm工艺“完美”:良率和性能达到新高!

   日期:2023-08-04     作者:itcg    浏览:700    我要评论    

IT采购网7月31日消息,近日,Intel公司宣布了其未来处理器工艺规划的最新进展。据悉,下半年发布的MeteorLake酷睿Ultra处理器将是首款采用Intel4制造工艺的产品,代表着Intel工艺的一次重要升级。该制造工艺之前被称为7nm,但Intel表示它在性能上能够达到4nm级别的水平,因此对其进行了重新命名。

Intel CEO帕特·基辛格透露,今年第二季度,Intel3工艺已经取得了重要的里程碑,包括缺陷密度和性能方面的进展,该工艺将如期达到预定的良率和性能目标。Intel 3工艺将首先应用于SierraForest处理器,这是首款纯小核设计的产品,随后将迅速用于GraniteRapids处理器,该处理器采用纯大核设计。这些处理器有望被纳入第六代可扩展至强序列。而今年底还将推出第五代EmeraldRapids处理器,其制造工艺与目前的第四代Sapphire Rapids相同,均采用Intel 7工艺。

据IT采购网了解,Intel 3工艺似乎主要面向数据中心产品的优化,目前尚未看到其应用于消费级产品的相关规划。

而在未来,Intel还将推出Arrow Lake处理器,它将采用Intel 20A工艺,相当于2nm级别。Arrow Lake处理器将首次引入Intel20A工艺中的RibbonFET和PowerVia技术,这将使其能够大规模用于消费级产品。目前,Arrow Lake处理器正在晶圆厂内进行第一步的工作。

值得一提的是,Intel近日宣布在代号为“Blue SkyCreek”的产品级测试芯片上率先实现了背面供电技术。该技术可显著提高芯片使用效率,同时减小晶体管体积,增加单元密度,从而降低成本,并使平台电压降低了30%,带来了6%的频率增益。

Intel未来处理器工艺的不断升级和创新,必将为计算技术领域带来新的突破和进步。这些新工艺的应用将为用户带来更高效、高性能的处理器产品,满足日益增长的计算需求。

 
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