IT采购网05月20日消息，三星电子再次展示了在DRAM领域的领导地位，宣布正式启动了12纳米工艺的16Gb DDR5DRAM的大规模生产。这款新一代内存芯片采用差异化的工艺技术，具备出色的性能和电源效率。据三星电子DRAM产品与技术执行副总裁JooyoungLee介绍，通过使用一种新的高K材料，12纳米级DDR5DRAM的开发取得了重大突破。新工艺使得晶体管栅极材料具备更高的电容，提高了状态准确区分的能力。此外，三星还通过降低工作电压和减少噪音的努力，为内存芯片提供了优化的解决方案。
据IT采购网了解，这次12纳米级DDR5DRAM的首次使用将主要应用于数据中心、人工智能和下一代计算等领域，而PC用户则需要等待更长的时间。然而，这次生产的16Gb DDR5DRAM具有诸多优势，包括降低了约23%的功耗和提高了20%的晶圆生产力。此外，新一代内存芯片的最大引脚速度可达7.2Gbps，进一步提升了性能。
此次12纳米工艺的推出标志着三星电子在内存领域的技术突破，不过值得注意的是，虽然这些内存IC在功耗、速度和晶圆经济等方面有所改进，但其容量仍然是16Gb，并没有在密度路线图上取得更大的突破。然而，随着12纳米级DDR5DRAM的大规模生产，三星电子进一步巩固了在DRAM市场的领先地位，为数据中心和人工智能等领域的应用提供了更高性能和更低功耗的解决方案。
